Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634932)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Известия высших учебных заведений. Серия "Химия и химическая технология"  / №4 2015

ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ БИНАРНЫХ СМЕСЕЙ HCl+Ar, He, H2, O2 И Cl2 (90,00 руб.)

0   0
Первый авторЕфремов
АвторыМурин Д.Б.
Страниц5
ID410396
АннотацияПроведено экспериментальное исследование и модельный анализ влияния начального состава бинарных смесей HCl+Ar, He, H2, O2 и Cl2 на стационарные электрофизические параметры плазмы и концентрации заряженных частиц в условиях тлеющего разряда постоянного тока. Получены данные по температуре газа, приведенной напряженности электрического поля, средней энергии и концентрации электронов. Проанализированы механизмы процессов образования и гибели электронов и ионов.
УДК537.525
Ефремов, А.М. ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ БИНАРНЫХ СМЕСЕЙ HCl+Ar, He, H2, O2 И Cl2 / А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин // Известия высших учебных заведений. Серия "Химия и химическая технология" .— 2015 .— №4 .— С. 12-16 .— URL: https://rucont.ru/efd/410396 (дата обращения: 28.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

; Кафедра химии и процессов горения Belousov V.P., Panov M.Yu. <...> УДК 537.525 А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ БИНАРНЫХ СМЕСЕЙ HCl+Ar, He, H2, O2 И Cl2 (Ивановский государственный химико-технологический университет) e-mail: efremov@isuct.ru,dim86@mail.ru Проведено экспериментальное исследование и модельный анализ влияния начального состава бинарных смесей HCl+Ar, He, H2, O2 и Cl2 на стационарные электрофизические параметры плазмы и концентрации заряженных частиц в условиях тлеющего разряда постоянного тока. <...> Получены данные по температуре газа, приведенной напряженности электрического поля, средней энергии и концентрации электронов. <...> Проанализированы механизмы процессов образования и гибели электронов и ионов. <...> Ключевые слова: плазма, хлористый водород, константа скорости, кинетика, концентрация ВВЕДЕНИЕ Неравновесная низкотемпературная плазма галогенводородов (HX, где X=Cl, Br или I) находит широкое применение при производстве изделий интегральной микро- и нано-электроники в процессах очистки и структурирования поверхности полупроводниковых пластин и различных функциональных слоев [1,2]. <...> В качестве основных преимуществ хлористого водорода перед другими хлорсодержащими газами можно выделить: 1) низкие степени диссоциации HCl [3], способствующие получению анизотропного профиля травления, и 2) возможность сочетания эффектов двухканального химического взаимодействия в системе «плазма-твердое тело» с участием атомов хлора и водорода [2,4]. <...> В таких системах начальный состав смеси является дополнительным инструментом регулирования параметров плазмы и концентраций активных частиц. <...> В наших предшествующих работах были проведены исследования электрофизических параметров и состава плазмы в смесях хлористого водорода с аргоном [6,7], гелием [6], водородом [8], кислородом [9] и хлором [10]. <...> К сожалению, прямое сопоставление свойств этих систем (например, с целью выбора оптимального газа добавки и состава плазмообразующей смеси <...>