1 УДК 539.67:621.315.592 ДЕГИДРОКСИЛИРОВАНИЕ И ОБРАЗОВАНИЕ ДЕФЕКТОВ ПОВЕРХНОСТИ КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА КУ-1 ПРИ ОТЖИГЕ Б.С. <...> Лунин, А.Н. Харланов, С.Е. Козлов (кафедра физической химии; e-mail: LBS@kge.msu.ru) Рассмотрен механизм образования поверхностных дефектов при отжиге кварцевого стекла КУ-1. <...> На основе экспериментальных данных показано, что основной причиной дефектообразования являются внутренние напряжения, возникающие при дегидроксилировании приповерхностной зоны. <...> При температуре отжига свыше 850°С внутренние напряжения, благодаря высокой скорости релаксации, не превышают критических значений и поверхность не изменяется. <...> При более низкой температуре отжига поверхностные трещины образуются уже через несколько десятков часов термообработки. <...> Кварцевое стекло КУ-1 широко используется в российской промышленности при производстве оптических деталей и высокодобротных механических резонаторов. <...> Особенностью этого стекла является достаточно высокая концентрация гидроксильных групп (∼1300 ppm), что связано с технологией его производства. <...> Отжиг деталей, изготовленных из КУ-1, сопровождается дегидроксилированием стекла на достаточно большую глубину, что в некоторых случаях может привести к существенному снижению их качества. <...> Цель настоящей работы состояла в исследовании дегироксилирования кварцевого стекла при отжиге в диапазоне температуры 800−980°С и в выяснении механизма образования поверхностных дефектов. <...> Для определения профиля и глубины дегидроксилированной поверхностной зоны, возникающей при отжиге, необходимо знать коэффициент диффузии гидроксильных групп в кварцевом стекле КУ-1. <...> Для плоских пластин толщиной h, отжигаемых в течение времени t, коэффициент диффузии ОН-групп (D) может быть вычислен по формуле (1) где [OH] − средняя по толщине образца концентрация гидроксильных групп после отжига в течение времеРис. <...> Дегидроксилирование плоского образца из кварцевого стекла КУ-1 при отжиге ни t; [OH]0 − исходная <...>