Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634938)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Микроэлектроника (РАН)  / №1 2017

ДВУХРАКУРСНАЯ ТОМОГРАФИЯ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ (200,00 руб.)

0   0
Первый авторРуденко
АвторыФадеев А.В.
Страниц10
ID593614
АннотацияЭмиссионная томография является перспективным методом диагностики латеральной однородности компонентов плазмы. Однако технологические особенности реакторов микроэлектроники позволяют использовать строго лимитированное количество ракурсов, что пагубно сказывается на качестве реконструкции. Предложенная нами ранее модель локальных неоднородностей (МЛН) позволяет разрешить трудности диагностики латеральной однородности компонентов низкотемпературной плазмы при двухракурсной веерной схеме сканирования. В представленной работе модель дополнена учетом дополнительного фактора, влияющего на точность томографической реконструкции, а именно, – зависимость интенсивности излучения, которое регистрируется оптическим ракурсным датчиком, от расстояния до излучающей частицы плазмы. Учет проведен для томографической реконструкции методом максимума энтропии, являющимся для МЛН базовым
УДК621.382
Руденко, К.В. ДВУХРАКУРСНАЯ ТОМОГРАФИЯ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ / К.В. Руденко, А.В. Фадеев // Микроэлектроника (РАН) .— 2017 .— №1 .— С. 36-45 .— URL: https://rucont.ru/efd/593614 (дата обращения: 02.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

34–43 ТЕХНОЛОГИИ МИКРОИ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ УДК 621.382 ДВУХРАКУРСНАЯ ТОМОГРАФИЯ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ © 2017 г. А. <...> Руденко1, 2 1Физико-технологический институт Российской АН, Россия, 117218, г. Москва, Нахимовский проспект, 36/1 2Московский физико-технический институт (ГУ) “МФТИ”, Россия 141701, Московская облаcть, г. Долгопрудный, Институтский пер., 9 E-mail: AlexVFadeev@gmail.com, rudenko@ftian.ru Поступила в редакцию 06.06.2016 г. Эмиссионная томография является перспективным методом диагностики латеральной однородности компонентов плазмы. <...> Однако технологические особенности реакторов микроэлектроники позволяют использовать строго лимитированное количество ракурсов, что пагубно сказывается на качестве реконструкции. <...> Предложенная нами ранее модель локальных неоднородностей (МЛН) позволяет разрешить трудности диагностики латеральной однородности компонентов низкотемпературной плазмы при двухракурсной веерной схеме сканирования. <...> В представленной работе модель дополнена учетом дополнительного фактора, влияющего на точность томографической реконструкции, а именно, – зависимость интенсивности излучения, которое регистрируется оптическим ракурсным датчиком, от расстояния до излучающей частицы плазмы. <...> Учет проведен для томографической реконструкции методом максимума энтропии, являющимся для МЛН базовым. <...> DOI: 10.7868/S0544126917010033 ВВЕДЕНИЕ Плазменные технологии, наряду с литографией, являются ключевыми при изготовлении интегральных схем (ИС) [1]. <...> Уменьшение минимальных размеров элементов ИС приводит к постоянному росту требований накладываемых на латеральную однородность компонентов плазмы. <...> Поэтому развитие новых невозмущающих методов диагностики латеральной однородности плазмы, адаптированных к технологическим реакторам микро- и наноэлектроники, является ключевой задачей на этапах как создания плазменного оборудования, так и дизайна технологических процессов. <...> В связи с этим, активно развиваются томографические <...>