Технологии в электронной промышленности, № 8’2016 Лазерная технология интенсификации гальванического осаждения функциональных покрытий Предложена лазерная технология активации процесса электрохимического осаждения в режиме импульсного тока и определены режимы, позволяющие увеличить скорость осаждения покрытий и формировать локальные структуры с улучшенными физикомеханическими свойствами. <...> Применение лазерного излучения в период действия импульса тока активирует процесс кристаллизации металла, а в период паузы — ускоряет процессы диффузии ионов за счет микроперемешивания. <...> Александр Купо Владимир Ланин Александр Хмыль Методы и устройства лазерной активации гальванического осаждения В производстве изделий электроники широко применяются функциональные покрытия, обеспечивающие комплекс физико-химических, электрофизических и технологических свойств материалов и деталей. <...> Среди методов формирования покрытий выделяются методы гальванического осаждения, отличающиеся существенными преимуществами [1–3]: • простота состава технологических сред для электролиза; • большая толщина покрытия (десятки микрометров); • легкость управления технологическим процессом и его стабильность в течение длительного производственного цикла; • низкая стоимость технологического оборудования; • высокая производительность труда при использовании групповых методов; • формирование покрытий при невысокой температуре. <...> Однако этим методам присущи и определенные недостатки: • высокие внутренние напряжения в покрытиях могут негативно влиять на надежность изделий; • сложность локального осаждения покрытий. <...> В настоящее время для устранения указанных недостатков применяют лазерную активацию процессов гальванического осаждения функциональных покрытий. <...> Варьируя в широких пределах параметры лазерного излучения (ЛИ), можно получать разнообразные по стехиометрическому составу, структуре и морфологии <...>