Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 610537)
Контекстум
Машиностроитель  / №10 2014

ВЛИЯНИЕ ТЕМПЕРАТУРЫ НА ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПОДЛОЖЕК КАРБИДА КРЕМНИЯ (300,00 руб.)

0   0
Первый авторПопов
Страниц6
ID528067
АннотацияВ статье представлены результаты экспериментального исследования влияния температурного воздействия на удельное сопротивление подложек полуизолирующего карбида кремния
УДК621.382.029.64
Попов, В.В. ВЛИЯНИЕ ТЕМПЕРАТУРЫ НА ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПОДЛОЖЕК КАРБИДА КРЕМНИЯ / В.В. Попов // Машиностроитель .— 2014 .— №10 .— С. 38-43 .— URL: https://rucont.ru/efd/528067 (дата обращения: 09.04.2025)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

М АШИНО СТРОИТЕЛЬ www.mashizdat.ru УДК 621.382.029.64 Попов В.В., канд. техн. наук, президент, ОАО «Светлана» ВЛИЯНИЕ ТЕМПЕРАТУРЫ НА ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПОДЛОЖЕК КАРБИДА КРЕМНИЯ В статье представлены результаты экспериментального исследования влияния температурного воздействия на удельное сопротивление подложек полуизолирующего карбида кремния. <...> Подложки полуизолирующего карбида кремния используются для создания эпитаксиальных структур (ЭС) нитрида галлия с целью изготовления СВЧ приборов. <...> Эпитаксия нитрида галлия может осуществляться разными методами – HVPE [1], MOCVD [2] или MBE [2]. <...> В зависимости от способа эпитаксии подложка в процессе изготовления ЭС подвергается нагреву до температуры от 500 °С до 1100 °С. <...> В производстве диодов или транзисторов на базе ЭС нитрида галлия происходит нагрев подложки также до температур порядка 1000 °С на операции вжигания омических контактов. <...> Целью настоящей работы является экспериментальное изучение влияния такого температурного режима на удельное сопротивление подложек полуизолирующего карбида кремния. <...> Эксперимент проводился на подложках карбида кремния политипа 6Н-SiC диаметром 3 дюйма, изготовленных из монокристалла, который выращен с добавлением ванадия в качестве компенсирующей примеси. <...> Типичная карта распределения удельного сопротивления, полученная на подложках с помощью установки COREMA-WT [3], приведена на рис. <...> Перед началом измерений подложки предварительно выдерживалась в темноте в течение 40 минут. <...> Сами измерения удельного сопротивления также проводились под светонепроницаемым колпаком для исключения фотоэффекта. <...> Распределение удельного сопротивления по подложке характерно для роста монокристалла из тща38 тельно подготовленного источника и добавления компенсирующей примеси. <...> 1 имеются области (18% площади подложки), в которых удельное сопротивление превышает верхний предел диапазона измерений (1Ч1012 ОмЧсм). <...> В этих областях донорная примесь – азот N, по-видимому <...>