Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 610204)
Контекстум
Прикладная физика  / №1 2014

Исследование параметров плазмы ВЧ-индуктивного источника плазмы диаметром 46 см. Часть II. Математическое моделирование параметров плазмы индуктивного и гибридного ВЧ-разрядов (10,00 руб.)

0   0
Первый авторАлександров
АвторыВавилин К.В., Кралькина Е.А., Неклюдова П.А., Павлов В.Б.
Страниц3
ID431924
АннотацияВ работе представлены результаты численных расчетов температуры и концентрации электронов в плазме индуктивного ВЧ-разряда в инертных газах. Диапазон рассмотренных давлений 1–200 мТорр. Результаты расчетов позволили объяснить немонотонную зависимость параметров плазмы от давления инертных газов возрастанием энергозатрат на возбуждение атомов при низких значениях электронной температуры и усилением выноса энергии ионами на стенки источника плазмы при повышении роли емкостной составляющей разряда.
УДК537.525.99
Исследование параметров плазмы ВЧ-индуктивного источника плазмы диаметром 46 см. Часть II. Математическое моделирование параметров плазмы индуктивного и гибридного ВЧ-разрядов / А.Ф. Александров [и др.] // Прикладная физика .— 2014 .— №1 .— С. 9-11 .— URL: https://rucont.ru/efd/431924 (дата обращения: 16.04.2025)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

Прикладная физика, 2014, № 1 УДК 537.525.99 Исследование параметров плазмы ВЧ-индуктивного источника плазмы диаметром 46 см. Часть II. <...> Математическое моделирование параметров плазмы индуктивного и гибридного ВЧ-разрядов А.Ф. <...> Александров, К.В. Вавилин, Е.А. Кралькина, П.А. Неклюдова, В.Б. Павлов В работе представлены результаты численных расчетов температуры и концентрации электронов в плазме индуктивного ВЧ-разряда в инертных газах. <...> Результаты расчетов позволили объяснить немонотонную зависимость параметров плазмы от давления инертных газов возрастанием энергозатрат на возбуждение атомов при низких значениях электронной температуры и усилением выноса энергии ионами на стенки источника плазмы при повышении роли емкостной составляющей разряда. <...> Введение В настоящее время в связи с развитием плазменных технологий и конструированием нового поколения источников плазмы встает вопрос о выявлении ключевых параметров, влияющих на плотность плазмы и ее пространственное распределение, на эффективность поглощения ВЧ-мощности плазмой индуктивного ВЧразряда. <...> Очевидно, что поставленная задача может быть решена только на основе детального фундаментального исследования свойств разряда в широком диапазоне его существования и разработки физической модели разряда. <...> В работе [1] (которая представляет Часть I всего цикла работ по исследованию параметров плазмы ВЧиндуктивного источника плазмы диаметром 46 см) экспериментально было получено, что эффективная температура и концентрация электронов немонотонно зависят от давления. <...> Настоящая работа посвящена нахождению физических причин наблюдавшегося эффекта на основании математического моделирования. <...> Методика численных расчетов Простая физическая модель индуктивного ВЧ-разряда низкого давления подробно описана в [2]. <...> Она позволяет определить усредненные по объему концентрацию и температуру электронов, потенциал плазмы относительно стенок источника <...>