84 УДК 621.315.5 Влияние режимов химической обработки монокристаллов InSb на состав и структуру поверхности Л. В. Киселева, А. А. Лопухин, Ю. С. Мезин, А. В. Савостин, П. В. Власов, О. С. Вяткина Многочисленные исследования показали, что параметры приборов на основе узкозонных полупроводников могут существенно зависеть от обработки и состояния поверхности. <...> Были проведены исследования поверхности (100) InSb после химико-механической и химикодинамической полировки с использованием травителей на основе водных растворов перекиси водорода и винной кислоты. <...> Показано, что образующиеся на поверхности окислы индия и сурьмы зависят от обработки, а в некоторых случаях дополняются соединениями элементов основной матрицы с углеродом. <...> Pw, 85.60.Gz Ключевые слова: матричный фотоприемник, МФП, фоточувствительный элемент, ФЧЭ, химикомеханическая полировка, ХМП, химико-динамическая полировка, ХДП, InSb, электронная спектроскопия для химического анализа, ЭСХА, Оже-спектры. <...> Введение Изготовление МФП на основе узкозонных материалов требует утоньшения базовой области до толщины 10—20 мкм с сохранением геометрических размеров ФЧЭ. <...> Процесс утоньшения включает химико-механическую полировку (ХМП) до толщины 80—100 мкм и последующую химикодинамическую полировку (ХДП) до конечной толщины 10—20 мкм. <...> Целью данной работы являлось комплексное исследование поверхности (100) монокристалла InSb после химико-механической и химикодинамической полировки. <...> Экспериментальная часть При исследовании поверхности монокристалла InSb после ХМП с различным содержанием компонентов травителей, в том числе винной кислоты и хлорида натрия (NaCl), решались три основных задачи: исследование кинетических и полирующих свойств раствора; Киселева Лариса Васильевна, старший научный сотрудник. <...> E-mail: orion@orion-ir.ru Статья поступила в редакцию 30 сентября 2015 г. © Киселева Л. В., Лопухин А. А., Мезин Ю. С., Савостин А. В., Власов П. В., Вяткина О. С., 2015 определение элементного состава <...>