УДК 537.525 А.В. Дунаев, С.А. Пивоваренок, Д.Б. Мурин ВЗАИМОДЕЙСТВИЕ ПЛАЗМЫ СМЕСЕЙ ХЛОРОВОДОРОД - АРГОН, - ХЛОР, - ВОДОРОД С АРСЕНИДОМ ГАЛЛИЯ (Ивановский государственный химико-технологический университет) e-mail:dunaev-80@mail.ru, sap@isuct.ru, dim86@mail.ru Проведено исследование плазмохимического травления GaAs в смесях HCl-Ar, HCl-Cl2 и HCl-H2 в условиях тлеющего разряда постоянного тока. <...> Показано, что скорость травления GaAs при разбавлении HCl аргоном и водородом уменьшается быстрее, чем концентрация атомов хлора. <...> В смесях HCl-Cl2 скорость травления проходит через максимум при содержании хлора порядка 75%. <...> На возрастающем участке кривой скорость травления пропорциональна потоку атомов хлора, а после прохождения максимума лимитирующей стадией становится десорбция продуктов травления под действием ионной бомбардировки. <...> Ключевые слова: плазма, излучение, травление, концентрация, хлористый водород, аргон, хлор, водород ВВЕДЕНИЕ Плазма разрядов в смесях хлористого водорода с различными газами находит применение при проведении процессов плазмохимического травления ряда полупроводников, в частности соединений типа AIIIBV [1,2]. <...> Целью данной работы являлось исследование особенностей плазмохимического травления GaAs в смесях HCl-Ar, HCl-Cl2 и HCl-H2 в условиях тлеющего разряда постоянного тока. <...> МЕТОДИЧЕСКАЯ ЧАСТЬ Для экспериментального исследования взаимодействия плазмы HCl и его смесей с молекулярными и инертными газами с GaAs в условиях тлеющего разряда постоянного тока использо44 вался цилиндрический проточный плазмохимический реактор (внутренний диаметр d=3.4 см, длина зоны разряда l=40 см). <...> Исследования проводились при токах iр=10–60 мА и давлении плазмообразующего газа p=100 Па. <...> Для получения HCl был использован химический метод, основанный на реакции между хлористым натрием и серной кислотой [9]. <...> Для получения водорода использовался метод, в основе которого лежит химическая реакция между Zn и HCl, реакция проводилась в аппарате Киппа [9]. <...> 1 представлены <...>