Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634942)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Известия высших учебных заведений. Серия "Химия и химическая технология"  / №8 2014

ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ И КОНЦЕНТРАЦИИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ В ПЛАЗМЕ СМЕСЕЙ МЕТАНА С АРГОНОМ (90,00 руб.)

0   0
Первый авторЕфремов
АвторыСеменова О.А., Баринов С.М.
Страниц5
ID412575
АннотацияПроведено исследование стационарных параметров и состава плазмы смесей CH4-Ar переменного состава в условиях тлеющего разряда постоянного тока (p=40-200 Па, i=30-70 мА). Получены данные по приведенной напряженности электрического поля, энергетическим распределениям и концентрациям электронов. Проведен анализ кинетики процессов образования и гибели заряженных частиц.
УДК537.525
Ефремов, А.М. ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ И КОНЦЕНТРАЦИИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ В ПЛАЗМЕ СМЕСЕЙ МЕТАНА С АРГОНОМ / А.М. Ефремов, О.А. Семенова, С.М. Баринов // Известия высших учебных заведений. Серия "Химия и химическая технология" .— 2014 .— №8 .— С. 5-9 .— URL: https://rucont.ru/efd/412575 (дата обращения: 03.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

УДК537.525 А.М. Ефремов, О.А. Семенова, С.М. Баринов ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ И КОНЦЕНТРАЦИИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ В ПЛАЗМЕ СМЕСЕЙ МЕТАНА С АРГОНОМ (Ивановский государственный химико-технологический университет) e-mail: efremov@isuct.ru Проведено исследование стационарных параметров и состава плазмы смесей CH4-Ar переменного состава в условиях тлеющего разряда постоянного тока (p=40-200 Па, i=30-70 мА). <...> Получены данные по приведенной напряженности электрического поля, энергетическим распределениям и концентрациям электронов. <...> Проведен анализ кинетики процессов образования и гибели заряженных частиц. <...> Ключевые слова: метан, аргон, константа скорости, скорость, ионизация ВВЕДЕНИЕ Низкотемпературная газоразрядная плазма смесей CH4-Ar применяется в технологии современной микро- и наноэлектроники для «сухого» структурирования поверхности полупроводников типа A2B3 и A3B5 [1,2], а также оксидов цинка, индия и олова [3]. <...> Основным преимуществом метансодержащих газовых систем, по сравнению с галогенсодержащими средами, здесь является сочетание высокой анизотропии и полирующего характера травления [4]. <...> Успешная реализация и оптимизация всех упомянутых технологий требуют понимания взаимосвязей внешних (задаваемых) параметров плазмы и ее внутренних электрофизических характеристик, формирующих стационарные концентрации заряженных и нейтральных частиц. <...> Из анализа работ [6-8] следует, что варьирование мольных долей компонентов смеси, состоящей из молекулярного и инертного газов, при постоянных внешних параметрах разряда (расход газа, давление, вкладываемая мощность) оказывает существенное влияние на электрофизические характеристики и состав плазмы. <...> Механизм такого влияния проявляется через изменение энергетического распределения электронов и баланса скоростей процессов образования и гибели заряженных частиц. <...> Целью данной работы являлся анализ кинетики и механизмов процессов, формирующих стационарные электрофизические <...>