Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 608419)
Контекстум
Инженерный журнал: наука и инновации  / №7 2013

Лазерная интерференционная холоэллипсометрия in situ с нормальным и брюстеровским отражениями света (50,00 руб.)

0   0
Первый авторАли
ИздательствоМ.: Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана
Страниц10
ID276489
АннотацияРассмотрена холоэллипсометрия in situ с использованием лазерного интерференционного холоэллипсометра с бинарной модуляцией поляризации и нормальным и брюстеровским отражениями поляризованного света от одноосного двумерного кристалла, размещенного в плече интерферометра Майкельсона, который служит технической основой устройства.
УДК535.51
Али, М. Лазерная интерференционная холоэллипсометрия in situ с нормальным и брюстеровским отражениями света / М. Али // Инженерный журнал: наука и инновации .— 2013 .— №7 .— URL: https://rucont.ru/efd/276489 (дата обращения: 14.03.2025)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

Лазерная интерференционная холоэллипсометрия in situ с нормальным… УДК 535.51 Лазерная интерференционная холоэллипсометрия in situ с нормальным и брюстеровским отражениями света © М. <...> Н.Э. Баумана, Москва, 105005, Россия Рассмотрена холоэллипсометрия in situ с использованием лазерного интерференционного холоэллипсометра с бинарной модуляцией поляризации и нормальным и брюстеровским отражениями поляризованного света от одноосного двумерного кристалла, размещенного в плече интерферометра Майкельсона, который служит технической основой устройства. <...> Ключевые слова: эллипсометрия, интерферометр Майкельсона, бинарная модуляция поляризации, одноосный двумерный кристалл. <...> Эллипсометрия — перспективный метод реализации мониторинга двумерных кристаллов [1] при их синтезе и обработке в интересах создания материалов с необходимыми для практических целей свойствами. <...> Физической основой мониторинга является исследование изменения состояния поляризации отраженного от кристалла светового потока при каждом цикле осаждения слоев. <...> Изменение состояния поляризации описывается относительным комплексным амплитудным коэффициентом отражения ρ∗ , равным отношению комплексных амплитудных коэффициентов отражения rp∗ и rs∗ для составляющих потока излучения с линейными р- и s-поляризациями [3]: <...> Али, Ю.Ю. Качурин, А.П. Кирьянов являются основными эллипсометрическими параметрами образца [3]. <...> Методы двухпараметричности эллипсометрии (1) применяют только для контроля прозрачных изотропных образцов, определяя всего два его параметра: как правило, толщину и показатель преломления. <...> С их помощью измеряют в режиме in situ основные эллипсометрические параметры при различных углах падения одновременно, что позволяет контролировать более сложные объекты, например двумерные кристаллы [4]. <...> Функциональная схема лазерного интерференционного холоэллипсометра in situ приведена на рис. <...> Оптическая схема представленного прибора основана <...>

Облако ключевых слов *


* - вычисляется автоматически