81–88 УДК 533.924:538.975 КОМПЛЕКСНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ МИКРОЧАСТИЦ, ОСАЖДЕННЫХ ИЗ ПЛАЗМЫ ДУГОВОГО РАЗРЯДА НА СТЕНКАХ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ © 2017 г. Н. А. Смоланов Мордовский государственный университет, 430005, Саранск, Россия E-mail: smolanovna@yandex.ru Поступила в редакцию 20.10.2016 г. Проведено комплексное исследование микрочастиц и конденсата в виде пленок, осажденных из плазменного потока дугового разряда на стенках вакуумной камеры. <...> Исследования включали определение химического и фазового составов частиц, их морфологию, дифференциально-термический, электронно-микроскопический анализ, а так же электронный парамагнитный резонанс и ИКспектроскопию. <...> Поток плазмы распространялся в электрическом и магнитном полях. <...> Образующиеся структуры есть результат взаимодействия частиц, эмитируемых из катодного пятна. <...> При этом предполагается образование и существование в плазменном потоке токовых слоев. <...> Проведен анализ ретроградного вращения катодного пятна и плазменного потока. <...> Ключевые слова: дуговой разряд, поверхность, катодные пятна, пылевая плазма, капельная фракция, малоугловое рентгеновское рассеяние, фрактальная размерность, токовые слои. <...> DOI: 10.7868/S0207352817030167 ВВЕДЕНИЕ В технологиях получения тонких пленок используется низкотемпературная плазма различной природы, образованная газовыми разрядами различных типов (тлеющим, дуговым) или разрядом в вакууме. <...> Используемые в настоящее время вакуумные технологии применяют различные устройства и методы, направленные как на повышение производительности процесса (например, скорости роста осаждаемых и модифицированных покрытий, пленок), так и на их качества (чистота, однородность, адгезия и пр.) <...> . При этом следует учитывать, что от катодного пятна (КП), являющегося основой плазменного потока, до получения конденсированного состояния вещества катода или его соединений лежит целый ряд процессов взаимодействия осаждаемых частиц – ионов, электронов, капельной фракции плазмы. <...> Эти <...>