Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 635151)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Кристаллография  / №1 2017

ВЛИЯНИЕ ПОТОКА МЫШЬЯКА НА СТРУКТУРНЫЕ СВОЙСТВА GaAs ПРИ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОМ ЭПИТАКСИАЛЬНОМ РОСТЕ НА ПОДЛОЖКАХ GaAs С ОРИЕНТАЦИЕЙ (100) И (111)A (200,00 руб.)

0   0
Первый авторКлимов
АвторыВасильев А.Л., Имамов Р.М., Пушкарев С.С., Трунькин И.Н., Мальцев П.П.
Страниц9
ID592954
АннотацияИсследовано влияние потока мышьяка в камере роста на кристаллическую структуру GaAs, выращенного молекулярно-лучевой эпитаксией при температуре 240°С на подложках GaAs c ориентацией (100) и (111)А. Соотношение потоков мышьяка As4 и галлия (γ) изменялось в диапазоне от 16 до 50. Пленки GaAs были нелегированные, однородно легированные кремнием либо содержали три эквидистантно расположенных δ-слоя кремния. После отжига образцов методом просвечивающей электронной микроскопии исследовано их структурное совершенство. Впервые обнаружено, что δ-слои кремния в “низкотемпературном” GaAs служат центрами образования преципитатов мышьяка. Оценены их средний размер, концентрация и пространственное распределение. Исследована зависимость структурного совершенства пленок от γ. В ряде образцов выявлены области размером 100–150 нм, идентифицированные с помощью рентгеновского микроанализа как поры. Выявлено, что во всем указанном диапазоне γ пленки GaAs на подложках (111)А обладают более высокой дефектностью и становятся поликристаллическими, начиная с толщины 150–200 нм.
УДК539.25:[548.55+548.4]
ВЛИЯНИЕ ПОТОКА МЫШЬЯКА НА СТРУКТУРНЫЕ СВОЙСТВА GaAs ПРИ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОМ ЭПИТАКСИАЛЬНОМ РОСТЕ НА ПОДЛОЖКАХ GaAs С ОРИЕНТАЦИЕЙ (100) И (111)A / Е.А. Климов [и др.] // Кристаллография .— 2017 .— №1 .— С. 79-87 .— URL: https://rucont.ru/efd/592954 (дата обращения: 07.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

77–85 РЕАЛЬНАЯ СТРУКТУРА КРИСТАЛЛОВ УДК 539.25:[548.55+548.4] ВЛИЯНИЕ ПОТОКА МЫШЬЯКА НА СТРУКТУРНЫЕ СВОЙСТВА GaAs ПРИ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОМ ЭПИТАКСИАЛЬНОМ РОСТЕ НА ПОДЛОЖКАХ GaAs С ОРИЕНТАЦИЕЙ (100) И (111)A © 2017 г. Г. <...> А.В. Шубникова ФНИЦ “Кристаллография и фотоника” РАН, Москва 3Национальный исследовательский центр “Курчатовский институт”, Москва E-mail: s_s_e_r_p@mail.ru Поступила в редакцию 03.11.2015 г. Исследовано влияние потока мышьяка в камере роста на кристаллическую структуру GaAs, выращенного молекулярно-лучевой эпитаксией при температуре 240°С на подложках GaAs c ориентацией (100) и (111)А. <...> Пленки GaAs были нелегированные, однородно легированные кремнием либо содержали три эквидистантно расположенных δ-слоя кремния. <...> После отжига образцов методом просвечивающей электронной микроскопии исследовано их структурное совершенство. <...> Впервые обнаружено, что δ-слои кремния в “низкотемпературном” GaAs служат центрами образования преципитатов мышьяка. <...> Исследована зависимость структурного совершенства пленок от γ. <...> Выявлено, что во всем указанном диапазоне γ пленки GaAs на подложках (111)А обладают более высокой дефектностью и становятся поликристаллическими, начиная с толщины 150–200 нм. <...> DOI: 10.7868/S0023476117010076 ВВЕДЕНИЕ В течение последних двух десятилетий не ослабевает интерес к выращиванию тонких пленок A3B5 методом молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) при низких температурах [1, 2]. <...> Эпитаксиальные слои, выращенные при температурах Tg = 150–350°С, обладают уникальными свойствами, которые в совокупности позволяют использовать так называемый низкотемпературный GaAs (low-temperature GaAs, LT-GaAs) в качестве материала для фотопроводящих антенн, генерирующих и детектирующих терагерцевое электромагнитное излучение. <...> Такие свойства LT-GaAs связаны с наличием в его кристаллической структуре избыточных атомов мышьяка. <...> Избыток As в LT-GaAs может достигать 1.5 ат. % и зависит от таких технологических условий роста, как температура подложки Tg и отношение молекулярных потоков <...>