Дюмаев, А. М. Коваленко, Я. Л. Бабушкин, С. А. Кричевская, Ш. И. Тарицкая Поступило 07.09.2016 г. Предложена новая стратегия синтеза флуоренсодержащих порфиринов с помощью реакции Сузуки–Мияуры с участием тетраборильного производного порфирина и флуоренового производного 4-броманилина. <...> Ряд последовательных химических превращений полученного порфирина привел к образованию полифенольного производного указанного соединения. <...> На основе подобного полифенола были разработаны позитивные фоторезисты для литографии с экспонирующим излучением при длине волны 13.5 нм, которые позволили получить топологические структуры с разрешением 22–16 нм. <...> DOI: 10.7868/S0869565217020128 Международная дорожная карта развития полупроводниковой технологии [1] представляет несколько перспективных литографических процессов, в ближайшие годы потенциально пригодных для реализации производства микросхем с топологическими размерами 20 нм и менее. <...> Среди этих технологий заметное место принадлежит экстремальной ультрафиолетовой (ЭУФ) нанолитографии с рабочей длиной волны излучения 13.5 нм. <...> Для успешной реализации указанной литографии в промышленном масштабе необходимо создание резистов, адекватно отвечающих высоким требованиям к таким параметрам, как светочувствительность, разрешение, неровность края линии, плазмостойкость. <...> Осуществленный нами поиск ароматических соединений, функционализация которых привела бы к полифенолам, перспективным для разработки новых эффективных фоторезистов для ЭУФ-литографии, позволил остановиться на флуоренсодержащих порфиринах, обладающих уникальной химической, фото- и термостабильностью. <...> Химические превращения подобных ароматических структур приводят к новым соединениям с комплексом ценных свойств для создания инновационных материалов [2, 3]. <...> Однако круг таким образом замещенных порфиринов, очевидно, весьма узок вследствие малой синтетической доступности флуореновых производных Всероссийский <...>