Выполнено исследование возможности плазменной очистки от загрязнений углеродом многослойных зеркал, используемых в EUV 13.5 нм литографии. <...> Проведенные эксперименты в безэлектродной плазме поверхностно-волнового разряда низкого давления в гелии и водороде показали высокую скорость, эффективность и селективность такой очистки без повреждения верхнего защитного слоя зеркала даже на атомарном уровне. <...> Определены оптимальные рабочие параметры плазменной очистки, и обсуждается ее возможный механизм! <...>