Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 610373)
Контекстум
Микроэлектроника (РАН)

Микроэлектроника (РАН) №4 2017 (916,50 руб.)

0   0
Страниц76
ID557450
АннотацияОснован в 1972 г. Публикуются статьи, посвященные технологическим, физическим и схемотехническим аспектам микро- и наноэлектроники. Особое внимание уделяется новым тенденциям в литографии, травлению, легированию, осаждению и планаризации на субмикронном и нанометровом уровнях, плазменным технологиям, молекулярно-пучковой эпитаксии и сухому травлению, а также методам исследования и контроля поверхностей и многослойных структур. Обсуждаются вопросы приборно-технологического моделирования и диагностики технологических процессов в реальном времени. Публикуются статьи о полупроводниковых приборах на базе новых физических явлений, таких как квантовые размерные эффекты и сверхпроводимость.
Микроэлектроника (РАН) .— Москва : Российская академия наук (РАН) .— 2017 .— №4 .— 76 с. — URL: https://rucont.ru/efd/557450 (дата обращения: 07.04.2025)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

СОДЕРЖАНИЕ Номер 4, 2017 КВАНТОВЫЕ КОМПЬЮТЕРЫ Интегрированные алмазные сенсоры с оптическим управлением А. В. Цуканов ПРИБОРЫ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ Влияние особенностей конструкции изолирующей щели открытых “Сэндвич”-структур TiN–SiO2–W и Si–SiO2-W на процесс их электроформовки В. М. Мордвинцев, С. Е. Кудрявцев Расчёт высокочастотной электропроводности тонкого полупроводникового слоя в случае различных коэффициентов зеркальности его поверхностей И. А. Кузнецова, Д. Н. Романов, О. В. Савенко, А. А. Юшканов ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ Кинетика травления меди в ВЧ-разряде фреона R-12 А. В. Дунаев, Д. Б. Мурин Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы CF2Cl2/Ar и CF2Cl2/He С. А. Пивоваренок ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ Оптимизация омических контактов к n-слоям гетеробиполярных наногетероструктур на основе арсенида галлия В. И. Егоркин, В. Е. Земляков, А. <...> В Неженцев, В. И. Гармаш Разработка методики локального легирования и коррекции проводимости эпитаксиальных слоёв PbSnTe путём диффузии индия из поверхностных нанометровых плёнок Д. В. Ищенко, Б. М. Кучумов РАДИАЦИОННЫЕ ЭФФЕКТЫ В ЭЛЕМЕНТАХ И СИСТЕМАХ Диффузионная модель ионизационной реакции элементов БИС при воздействии ТЗЧ А. В. <...> 247–265 КВАНТОВЫЕ КОМПЬЮТЕРЫ УДК 530.145 ИНТЕГРИРОВАННЫЕ АЛМАЗНЫЕ СЕНСОРЫ С ОПТИЧЕСКИМ УПРАВЛЕНИЕМ © 2017 г. А. В. Цуканов Физико-технологический институт Российской АН Россия, 117218, Москва, Нахимовский проспект, 34 E-mail: tsukanov@ftian.ru Поступила в редакцию 2.12.2016 г. Обзор знакомит читателя с особым классом твердотельных высокотехнологичных детекторов внешних полей на основе алмазных микроструктур, содержащих оптически активные дефекты. <...> ВВЕДЕНИЕ Уже почти два десятилетия азотно-вакансионные комплексы – NV-центры – в алмазных материалах всех типов вызывают растущий интерес у многих исследователей [1–3]. <...> В конечном итоге этот подход по сравнению с принципом прямого управления и наблюдения флуоресценции посредством конфокальной <...>
Микроэлектроника_№4_2017.pdf
СОДЕРЖАНИЕ Номер 4, 2017 КВАНТОВЫЕ КОМПЬЮТЕРЫ Интегрированные алмазные сенсоры с оптическим управлением А. В. Цуканов ПРИБОРЫ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ Влияние особенностей конструкции изолирующей щели открытых “Сэндвич”-структур TiN–SiO2–W и Si–SiO2-W на процесс их электроформовки В. М. Мордвинцев, С. Е. Кудрявцев Расчёт высокочастотной электропроводности тонкого полупроводникового слоя в случае различных коэффициентов зеркальности его поверхностей И. А. Кузнецова, Д. Н. Романов, О. В. Савенко, А. А. Юшканов ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ Кинетика травления меди в ВЧ-разряде фреона R-12 А. В. Дунаев, Д. Б. Мурин Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы CF2Cl2/Ar и CF2Cl2/He С. А. Пивоваренок ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ Оптимизация омических контактов к n-слоям гетеробиполярных наногетероструктур на основе арсенида галлия В. И. Егоркин, В. Е. Земляков, А. В Неженцев, В. И. Гармаш Разработка методики локального легирования и коррекции проводимости эпитаксиальных слоёв PbSnTe путём диффузии индия из поверхностных нанометровых плёнок Д. В. Ищенко, Б. М. Кучумов РАДИАЦИОННЫЕ ЭФФЕКТЫ В ЭЛЕМЕНТАХ И СИСТЕМАХ Диффузионная модель ионизационной реакции элементов БИС при воздействии ТЗЧ А. В. Согоян, А. И. Чумаков Методика радиационной идентификации предприятия и характеризации технологии изготовления интегральных схем А. В. Согоян, Г. Г. Давыдов, А. С. Артамонов, А. С. Колосова, В. А. Телец, А. Ю. Никифоров, Ю. А. Ожегин, А. С. Каменева, Ю. М. Московская 313 305 295 284 290 266 275 247 301
Стр.1