Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 610252)
Контекстум
Вестник Воронежского государственного университета. Серия: Физика. Математика  / №1 2004

ИНТЕГРО-ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНОЕ УРАВНЕНИЕ ДИФФУЗИИ (90,00 руб.)

0   0
Первый авторАнтюшин
АвторыБуданов А.В., Кухаренко Д.С., Стрыгин В.Д.
Страниц5
ID521075
АннотацияДля описания процесса диффузии в материалах со стехиометрическими вакансиями обосновано, сформулировано и решено уравнение в интегро-дифференциальной форме. Предложенное уравнение учитывает корреляционные эффекты и исключает дальнодействие из описания процесса. Сняты ограничения на концентрацию диффундирующей примеси и ее градиент
УДК53072; 53:681.3
ИНТЕГРО-ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНОЕ УРАВНЕНИЕ ДИФФУЗИИ / В.Ф. Антюшин [и др.] // Вестник Воронежского государственного университета. Серия: Физика. Математика .— 2004 .— №1 .— С. 50-54 .— URL: https://rucont.ru/efd/521075 (дата обращения: 17.04.2025)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

ВЕСТНИК ВГУ, Серия физика, математика, 2004, ¹1 МАТЕМАТИКА УДК 53072; 53:681.3 ИНТЕГРО-ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНОЕ УРАВНЕНИЕ ДИФФУЗИИ © 2004 В. Ф. Антюшин, А. В. Буданов, Д. С. Кухаренко, В. Д. Стрыгин Воронежская государственная технологическая академия Для описания процесса диффузии в материалах со стехиометрическими вакансиями обосновано, сформулировано и решено уравнение в интегро-дифференциальной форме. <...> Предложенное уравнение учитывает корреляционные эффекты и исключает дальнодействие из описания процесса. <...> Сняты ограничения на концентрацию диффундирующей примеси и ее градиент. <...> В планарной технологии полупроводниковых приборов на определенном этапе ее развития широкое распространение получил так называемый метод двухстадийной диффузии. <...> На первой стадии примесь из внешнего источника вводится в полупроводник с поверхности на небольшую глубину (стадия загонки), после чего источник примеси удаляется и диффузия продолжается, в общем случае, при другой температуре, в условиях, препятствующих испарению примеси из образца (стадия разгонки) [1, 2]. <...> Часто, для создания резких концентрационных примесных профилей вместо диффузионной загонки применяют ионную имплантацию или молекулярно лучевую эпитаксию с одновременным легированием [2, 3]. <...> В металлургической технологии резкие концентрационные примесные профили возникают на начальных этапах науглероживания сталей для их дальнейшей закалки Аналогичная ситуация (диффузия из резкого примесного профиля) имеет место на границах кристаллов при термоударных отжигах [4]. <...> В перечисленных и многих других случаях условия применимости классических дифференциальных уравнений Фика (свободная диффузия), Смолуховского (диффузия с дрейфом), Фоккера–Планка (диффузия с динамическим трением) нарушаются [5, 6, 7]. <...> В формулах (1—3) (, )Pz t — вероятность обнаружить частицу в точке с координатой z в момент времени t ; (, )Wz скачка этой частицы с изменением координаты на . <...> Подразумевается, что разложение <...>