УДК 538.958 ВЛИЯНИЕ ТЕМПЕРАТУРЫ ПОДЛОЖКИ НА ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ТОНКИХ ПЛЕНОК АМОРФНОГО ГИДРОГЕНИЗИРОВАННОГО КРЕМНИЯ, ПОЛУЧЕННЫХ СТРУЙНЫМ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИМ МЕТОДОМ СТРУНИН В. И., БАРАНОВА Л. В. <...> Проведены исследования пленок аморфного гидрогенизированного кремния, полученных струйным плазмохимическим способом, определена ширина запрещенной зоны, вычислена концентрация водорода в пленках, а также определена зависимость ширины запрещенной зоны от концентрации водорода и температуры подложки. <...> КЛЮЧЕВЫЕ СЛОВА: аргон-силановая плазма, тлеющий разряд, струйный плазмохимический способ, ширина запрещенной зоны, структура пленок, осаждение тонких пленок, тонкие пленки аморфного кремния. <...> При производстве фотоэлектрических преобразователей традиционными способами в плазме тлеющего разряда процессы переноса и рекомбинации носителей заряда в аморфном кремнии тесно связаны с условиями приготовления пленок: составом атмосферы смеси газов, давлением, мощностью ВЧ-разряда, температурой подложки и т.д., поэтому получение высококачественных пленок требует оптимизации режимов и технологий их формирования. <...> Температура подложки, оптимальное значение которой влияет на скорость роста и качество растущей пленки играет важную роль в процессе формирования пленок. <...> Низкая температура приводит к снижению подвижности пленкообразующих комплексов, зародышеобразованию и структурной неоднородности пленки [2]. <...> В данной работе были проведены исследования влияния температуры подложки на оптические свойства тонких пленок аморфного гидрогенизированного кремния, полученных струйным плазмохимическим методом. <...> МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА Осаждение тонких пленок аморфного кремния проводилось на вакуумной установке ННВ 6.1. <...> Плазма тлеющего разряда возбуждалась в цилиндрической вакуумной камере диаметром 7 см, длиной 10 см, диаметр сопла выбирался равным 3 мм. <...> Расстояние от среза сопла до подложки составляло 6 см. Давление <...>