Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634699)
Контекстум
.
Естественные и технические науки  / №6 2013

РАСЧЕТ ПРОЕКЦИОННОЙ СИСТЕМЫ ДЛЯ ОПТИКО-ЭЛЕКТРОННОГО ГОЛОГРАФИЧЕСКОГО НАНОЛИТОГРАФА С ГОЛОГРАММНЫМ ОПТИЧЕСКИМ КОМПОНЕНТОМ (100,00 руб.)

0   0
Первый авторОдиноков
АвторыКузнецов А.С., Ковалев М.С., Соломашенко А.Б.
Страниц5
ID498250
АннотацияАктуальной является задача использования в производстве интегральных микросхем оптикоэлектронного голографического нанолитографа, позволяющего обеспечить ширину линий в несколько нанометров. Основой данного литографа является проекционная система, позволяющая уменьшить с требуемой кратностью изображение, считываемое с пространственного модулятора света
РАСЧЕТ ПРОЕКЦИОННОЙ СИСТЕМЫ ДЛЯ ОПТИКО-ЭЛЕКТРОННОГО ГОЛОГРАФИЧЕСКОГО НАНОЛИТОГРАФА С ГОЛОГРАММНЫМ ОПТИЧЕСКИМ КОМПОНЕНТОМ / С.Б. Одиноков [и др.] // Естественные и технические науки .— 2013 .— №6 .— С. 275-279 .— URL: https://rucont.ru/efd/498250 (дата обращения: 24.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

Естественные и технические науки, № 6, 2013 Приборостроение, метрология и информационно-измерительные приборы и системы Оптические и оптико-электронные приборы и комплексы Одиноков С.Б., доктор технических наук, профессор, доцент Кузнецов А.С., научный сотрудник, ассистент Ковалев М.С., ассистент Соломашенко А.Б., аспирант (Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана) РАСЧЕТ ПРОЕКЦИОННОЙ СИСТЕМЫ ДЛЯ ОПТИКО-ЭЛЕКТРОННОГО ГОЛОГРАФИЧЕСКОГО НАНОЛИТОГРАФА С ГОЛОГРАММНЫМ ОПТИЧЕСКИМ КОМПОНЕНТОМ Актуальной является задача использования в производстве интегральных микросхем оптикоэлектронного голографического нанолитографа, позволяющего обеспечить ширину линий в несколько нанометров. <...> Основой данного литографа является проекционная система, позволяющая уменьшить с требуемой кратностью изображение, считываемое с пространственного модулятора света. <...> CALCULATION OF THE PROJECTION SYSTEM FOR OPTOELECTRONIC HOLOGRAPHIC NANOLITHOGRAPHER WITH HOLOGRAPHIC OPTICAL COMPONENT The actual problem is the use in the manufacture of integrated circuits optoelectronic holographic nanolithographer, which gives a line width of a few nanometers. <...> Рост степени интеграции современных интегральных микросхем (ИМС) характеризуется не только увеличением площади кристаллов, но и в гораздо большей мере – уменьшением размеров элементов в субмикронной области, когда начинают проявляться новые физические эффекты. <...> Стремление отодвинуть дифракционный предел привело к разработке литографических методов, базирующихся на излучениях с гораздо меньшей длиной волны, в частности – электронного, позволившего получить 281 Естественные и технические науки, № 6, 2013 в специальных условиях рекордные результаты, обеспечивая на лабораторных электроннолучевых установках ширину линий ИМС в пределах 8 нм [1]. <...> В работе представлена схема оптико-электронного голографического литографа с фотополимерным голограммным оптическим компонентом-пластиной (ОЭГЛ-ФГП), предназначенного для получения фотошаблонов, дифракционных и голограммных <...>