Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 635165)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Монокль (Эксперт)  / №36 2016

Преодолеть смертельные дефекты (22,00 руб.)

0   0
Первый авторМеханик Александр
Страниц6
ID468768
АннотацияПрофессор Раховский, работающий над созданием принципиально нового фотолитографа — важнейшей машины для производства микроэлектроники, предлагает нашему правительству вспомнить Боевой устав советской пехоты
Механик, А. Преодолеть смертельные дефекты / А. Механик // Монокль (Эксперт) .— 2016 .— №36 .— С. 38-43 .— URL: https://rucont.ru/efd/468768 (дата обращения: 08.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

36 НАУКА И ТЕХНОЛОГИИ МИКРОЭЛЕКТРОНИК А Преодолеть смертельные дефекты Александр Механик Профессор Раховский, работающий над созданием принципиально нового фотолитографа — важнейшей машины для производства микроэлектроники, предлагает нашему правительству вспомнить Боевой устав советской пехоты ЭКСПЕРТ № 36 5–11 СЕНТ ЯБРЯ 2016 КОНСТАНТИН БАТЫНКОВ МИКРОЭЛЕКТРОНИК А Ф отолитографическая машина — ключевое устройство в производстве микроэлектроники (см. <...> В мире существуют всего две-три компании, способные создавать такие машины для производства самых современных процессоров. <...> И фактически контролируют производство процессоров во всем мире. <...> «Эксперт» № 26 за 2016 год), в которой рассказали о работе российских инженеров, создающих фотолитограф на новых принципах. <...> Сегодня мы беседуем с руководителем этой разработки профессором, доктором физико-математических наук Вадимом Раховским. <...> — Разработкой фотолитографических машин в мире занимаются крупнейшие компании, которые тратят на это многие миллиарды долларов. <...> Как вы решились составить им конкуренцию и почему вообще пришли к фотолитографии? <...> Но в это время нам иногда перепадали заказы от еле живых организаций — останков советской электроники. <...> Приходившие к нам разработчики и технологи неизменно жаловались, что их замучили дефекты на фотошаблонах — проекционных масках, возникавшие в процессе их изготовления и эксплуатации. <...> При этом по мере перехода ко все меньшим технологическим нормам требования к размерам и числу допустимых дефектов маски становились все строже и строже. <...> Например, для технологического уровня 90 нанометров отношение общей площади дефектов на поверхности маски к площади ее поверхности составляло 10–11 . <...> В конце концов мы поняли, что надо заняться поисками радикального метода устранения влияния дефектов фотошаблонов на качество создаваемого ими изображения. <...> — Тем более что требуется не одна маска, а целый набор. <...> — При производстве <...>