В работе описываются особенности процесса обработки мелкодисперсного порошка диоксида кремния в струе высокочастотного индукционного (ВЧИ) плазмотрона. <...> Исследования проведены на опытно-промышленном ВЧИ плазмотроне мощностью 1000 кВт, частотой 440 кГц. <...> Показаны общие принципы построения установки с использованием ВЧИ плазмотрона. <...> Обоснован выбор обрабатываемого материала, приведены области его применения. <...> Большое внимание уделено регулировочным характеристикам процесса обработки материала, связанным с вводом порошка в рабочую зону. <...> В результате исследований были установлены значения регулировочных характеристик для осуществления оптимального технологического процесса! <...>