Технологии в электронной промышленности, № 4’2016 Универсальное решение для производства фотошаблонов и прямого экспонирования подложек Сегодня в фотолитографии используются самые разнообразные системы экспонирования фоточувствительных слоев, различающиеся по типу источника излучения, степени автоматизации, минимальному разрешению, наличию или отсутствию промежуточного шаблона и т. д. <...> Какие же системы лучше подходят для определенных задач и есть ли среди них универсальные, способные заменить собой одновременно несколько других? <...> Сергей Леванов s.levanov@dipaul.ru экспонирования через маску к прямому экспонированию подложек. <...> Это обусловлено тем, что при огромной номенклатуре изделий количество штук в партии очень мало и изготавливать фотошаблон для 8–10 экспонирований экономически крайне В современной фотолитографии при небольших объемах производства все чаще стараются уйти от классического контактного неэффективно. <...> Самым логичным решением в такой ситуации является использование систем безмасковой литографии. <...> Недавно немецкая компания MIVA Technologies GmbH выпустила установки MIVA 2030X и MIVA 2060X серии Mask Writer (рис. <...> Как утверждает производитель, они обладают целым рядом уникальных качеств, делающих эти системы незаменимыми как на производствах гибридных микросхем, так и на классических полупроводниковых микроэлектронных производствах. <...> Работа установок 2030X/2060X основана на принципе растровой проекционной литографии с матрицей микрозеркал, чье положение формирует изображение на поверхности образца (рис. <...> Говоря проще, свет, излучаемый светодиодом, отражается от матрицы микрозеркал и проходит через объектив, попадая в определенную точку на поверхности подРис. <...> Установка безмасковой фотолитографии Miva 2030X/2060X серии Mask Writer Рис. <...> Принципиальная схема устройства экспонирующего модуля установок 2030X/2060X 24 www.teche.ru Печатные платы Рис. <...> Перемещая подложку под объективом, можно «набрать» на ней полное изображение <...>