УДК 548.55 Д.В. Тетерук, С.А. Тарелкин, В.С. Бормашов, А.П. Волков, Н.В. Корнилов, С.А. Терентьев ЛЕГИРОВАНИЕ АЛМАЗА, ВЫРАЩЕННОГО МЕТОДОМ ГАЗОФАЗНОГО ОСАЖДЕНИЯ (Технологический институт сверхтвердых и новых углеродных материалов) e-mail: teterukd@gmail.com Изучение процессов и методов легирования алмаза, выращенного методом газофазного осаждения (Chemical Vapor Deposition - CVD) – одна из наиболее актуальных задач в алмазной электронике на сегодняшний день. <...> Понимание природы процесса легирования алмаза необходимо для совершенствования электронных свойств алмаза и применения его как полупроводникового материала в микроэлектронике. <...> В представленной работе изложены результаты исследования процессов легирования алмаза бором и азотом и предложены новые методы легирования алмаза. <...> Представлены результаты измерений концентрации легирующих примесей и электронных свойств полученных алмазных слоев. <...> Ключевые слова: алмаз, газофазное осаждение, легирование ВВЕДЕНИЕ Наиболее часто используемыми примесями для легирования алмаза являются азот, как примесь n-типа, и бор, как примесь p-типа. <...> Легирование алмаза азотом – задача достаточно простая и решается путем добавления азота или смеси азот-водород вместе с остальными газами в реакционную камеру. <...> Наиболее распространенные методы борирования на сегодняшний день – это добавление боросодержащих газов в реакционную камеру вместе с рабочими газами [1-4], либо пропускание рабочих газов через систему барботажа, наполненную боросодержащим веществом в жидком состоянии [5]. <...> Боросодержашие газы, как правило, либо являются ядовитыми как диборан, либо содержат в своем составе азот, что недопустимо. <...> ЛЕГИРОВАНИЕ ПУТЕМ ЛАЗЕРНОГО РАСПЫЛЕНИЯ Нами был разработан альтернативный метод легирования CVD алмазов в процессе их роста. <...> Метод заключается в том, что в газовую линию установки монтируется специальная камера, внутри которой располагается монокристаллический бор. <...> Через вакуумное окно <...>