Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 635051)
Контекстум
Руконтекст антиплагиат система
Известия высших учебных заведений. Электроника  / №2 2016

Формирование двухкомпонентных вертикальных контактных структур для монтажа кристаллов интегральных схем (154,00 руб.)

0   0
Первый авторРощин
АвторыПетухов И.Н., Сеньченко К.С., Рощина А.В., Шилина Т.В.
Страниц6
ID376633
АннотацияРассмотрены технологические возможности послойного электрохимического формирования вертикальных контактных структур на основе системы медь–олово для монтажа кремниевых кристаллов, в том числе по 3D-технологии. Показана возможность фиксации посадочного зазора кристалл–плата для предотвращения замыкания контактных областей материалом припоя.
УДК621.3.049.77:544.654.2
Формирование двухкомпонентных вертикальных контактных структур для монтажа кристаллов интегральных схем / В.М. Рощин [и др.] // Известия высших учебных заведений. Электроника .— 2016 .— №2 .— С. 16-21 .— URL: https://rucont.ru/efd/376633 (дата обращения: 05.05.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

УДК 621.3.049.77:544.654.2 Формирование двухкомпонентных вертикальных контактных структур для монтажа кристаллов интегральных схем В.М. Рощин, И.Н. Петухов, К.С. Сеньченко, А.В. Рощина, Т.В. Шилина Национальный исследовательский университет «МИЭТ» Formation of Two-Component Vertical Contact Structures for Installation Crystals of Chips V.M. <...> Shilina National Research University of Electronic Technology, Moscow Рассмотрены технологические возможности послойного электрохимического формирования вертикальных контактных структур на основе системы медь–олово для монтажа кремниевых кристаллов, в том числе по 3D-технологии. <...> Показана возможность фиксации посадочного зазора кристалл–плата для предотвращения замыкания контактных областей материалом припоя. <...> Ключевые слова: монтаж методом «перевернутого кристалла»; двухкомпонентные контактные структуры; электрохимическое осаждение. <...> Повышение степени интеграции полупроводниковых кристаллов интегральных схем (ИС) и производства многофункциональных схем (система на кристалле) приводит к возрастанию количества выводов на кристалле. <...> Нередко размер полупроводникового чипа определяется не совокупностью элементов на нем, а размером и количеством контактных площадок. <...> В настоящее время некоторые кристаллы ИС включают 400 и более выводов, которые могут занимать практически всю площадь чипа. <...> Одним из перспективных способов монтажа кристаллов является метод «перевернутого кристалла» (flip-chip). <...> Матричную структуру выводов можно формировать, используя паяльную пасту и трафаретную печать. <...> ЭЛЕКТРОНИКА Том 21 № 2 2016 Формирование двухкомпонентных вертикальных контактных структур. водительностью и низкими расходами на формирование выводов. <...> Однако при малом шаге контактных областей (менее 200 мкм) проблемы, связанные с размазыванием пасты при отделении трафарета, перетеканием паяльной пасты и формированием выводов разного размера, приводят к образованию короткозамкнутых перемычек или к браку контактирования [1]. <...> Для увеличения количества <...>