Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634699)
Контекстум
.
Известия высших учебных заведений. Электроника  / №1 2016

Применение двухволновой рентгенооптической схемы совместных измерений зеркального отражения и диффузного рассеяния рентгеновского излучения для исследования многослойных тонкопленочных структур (154,00 руб.)

0   0
Первый авторСмирнов
АвторыГерасименко Н.Н., Овчинников В.В.
Страниц7
ID376627
АннотацияПредставлены результаты комплексного исследования параметров диффузионно-барьерных структур TiN/Ti с помощью методов относительной рентгеновской рефлектометрии и диффузного рассеяния рентгеновского излучения, реализованных на базе двухволновой рентгенооптической схемы измерений. Показано, что данная схема в рамках одного измерения обеспечивает исследование двух различных областей диффузного рассеяния, что повышает корректность и однозначность проведенного анализа. Рассмотренный комплекс методов позволяет разрешить неоднозначность типа плотность/шероховатость при решении обратной задачи рефлектометрии и рассчитать параметры скрытых слоев в исследованных структурах.
УДК621.386
Смирнов, Д.И. Применение двухволновой рентгенооптической схемы совместных измерений зеркального отражения и диффузного рассеяния рентгеновского излучения для исследования многослойных тонкопленочных структур / Д.И. Смирнов, Н.Н. Герасименко, В.В. Овчинников // Известия высших учебных заведений. Электроника .— 2016 .— №1 .— С. 75-81 .— URL: https://rucont.ru/efd/376627 (дата обращения: 25.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

МЕТОДЫ И ТЕХНИКА ИЗМЕРЕНИЙ MEASUREMENT METHODS AND TECHNOLOGY УДК 621.386 Применение двухволновой рентгенооптической схемы совместных измерений зеркального отражения и диффузного рассеяния рентгеновского излучения для исследования многослойных тонкопленочных структур Д. <...> П.Н. Лебедева РАН 3Национальный исследовательский Томский государственный университет 4Институт электрофизики Уральского отделения РАН (г. Екатеринбург) Application of a Two-Wave X-Ray Optical Scheme of Joint Measurement of Specular Reflection and Diffuse X-Ray Scattering for investigations of Multilayer Thin-Film Structures D.I. <...> Ovchinnikov4 1National Research University of Electronic Technology, Moscow 2The Lebedev Physical Institute of RAS, Moscow 3National Research Tomsk State University 4The Institute of Electrophysics of the Ural Division of RAS, Ekaterinburg Представлены результаты комплексного исследования параметров диффузионно-барьерных структур TiN/Ti с помощью методов относительной рентгеновской рефлектометрии и диффузного рассеяния рентгеновского излучения, реализованных на базе двухволновой рентгенооптической схемы измерений. <...> Рассмотренный комплекс методов позволяет разрешить неоднозначность типа плотность/шероховатость при решении обратной задачи рефлектометрии и рассчитать параметры скрытых слоев в исследованных структурах. <...> Ключевые слова: тонкопленочные наноструктуры; рентгеновская рефлектометрия; рентгеновское диффузное рассеяние; двухволновая рентгенооптическая схема. <...> ЭЛЕКТРОНИКА Том 21 № 1 2016 75 Д.И. Смирнов, Н.Н. Герасименко, В.В. Овчинников The results of the comprehensive study on the parameters of the diffusebarrier structures TiN/Ti by methods of relative X-ray reflectometry and diffuse X-ray scattering, based on a two-wave X-ray optical measurement scheme, have been presented. <...> It has been shown that the presented complex of methods permits to resolve the ambiguities, such as the “density – roughness” of the inverse problem of reflectometry and to calculate the parameters of the buried layers in the studied structures. <...> Keywords: thin-film nanostructures; X-ray reflectometry; X-ray diffuse scattering; two-wave <...>