ИНФОРМАЦИОННОТЕЛЕКОММУНИКАЦИОННЫЕ СИСТЕМЫ INFORMATION-TELECOMMUNICATION SYSTEMS УДК 621.3.038 Семейство серий базовых матричных кристаллов С. <...> Фёдоров1,2 1НПК «Технологический центр» (г. Москва) 2Национальный исследовательский университет «МИЭТ» Family of Gate Array Crystals Series S.V. <...> Fedorov1,2 1SMC «Technological Centre», Moscow 2National Research University of Electronic Technology, Moscow Представлены результаты работ по созданию семейства базовых матричных кристаллов от серии 5503 объемом 5500 вентилей до серии 5529 объемом 2200000 вентилей со встроенными блоками ОЗУ. <...> The results of work on development of a gate array family, which covers the range from 5503 series with the volume of 5500 gates to 5529 series with the volume of 2200000 gates with embedded RAM units, have been presented, and their design and prototyping tools have been described. <...> Современная радиоэлектронная аппаратура специального назначения [1], особенно для аэрокосмического, научного, военного назначения, систем связи и промышленной автоматики, может быть создана только с использованием специализированных микросхем, реализованных как заказные, полузаказные на основе базового матричного кристалла (БМК) или программируемые логические интегральные схемы (ПЛИС). <...> Оптимальный выбор элементной базы для реализации аппаратуры зависит от множества факторов. <...> Для аппаратуры специального назначения при всей важности экономических показателей определяющими факторами являются повышенная стойкость к внешним воздействиям, высокая надежность и долговечность, низкое энергопотребление, высокая функциональность, обеспечение разработки и поставки ИС в установленные сроки, длительный период поддержания производства данного типа ИС. <...> При этом серийность специализированных микросхем крайне низка и может составлять сотни и даже десятки микросхем. <...> Принято считать, что полностью заказные микросхемы обеспечивают максимальную функциональность, надежность и стойкость, минимальную стоимость при массовом производстве, но требуют максимальных затрат на этапе разработки и освоения производства и для производства малых партий не применимы. <...> ПЛИС <...>