Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634655)
Контекстум
.
Инженерный журнал: наука и инновации  / №6 2013

Исследования деградации резонансно-туннельных диодов на базе AlAs/GaAs наногетероструктур (50,00 руб.)

0   0
Первый авторМакеев
ИздательствоМ.: Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана
Страниц13
ID276464
АннотацияДля радиотехнических устройств на основе наноразмерных многослойных полупроводниковых гетероструктур актуальна проблема обеспечения надежности вследствие чувствительности параметров гетероструктуры к процессам деградации ввиду малости толщин слоев. В данной работе проведены исследования термической деградации AlAs/GaAs наногетероструктуры и партии резонанснотуннельных диодов с использованием методов ИК-спектральной эллипсометрии и ускоренного старения полупроводниковых устройств. В результате определены активационные параметры диффузии (энергия активации и предэкспоненциальный множитель) Al и Si в резонансно-туннельной структуре и приконтактных областях и зависимость контактного сопротивления AuGeNi омических контактов от времени и температуры. Полученные в настоящей работе числовые характеристики основных деградационных процессов могут быть использованы для прогнозирования надежности резонансно-туннельных диодов и нелинейных преобразователей радиосигналов на их основе.
УДК621.315.592+621.382.2+539.219.3
Макеев, М.О. Исследования деградации резонансно-туннельных диодов на базе AlAs/GaAs наногетероструктур / М.О. Макеев // Инженерный журнал: наука и инновации .— 2013 .— №6 .— URL: https://rucont.ru/efd/276464 (дата обращения: 23.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

Н.Э. Баумана, Москва, 105005, Россия Для радиотехнических устройств на основе наноразмерных многослойных полупроводниковых гетероструктур актуальна проблема обеспечения надежности вследствие чувствительности параметров гетероструктуры к процессам деградации ввиду малости толщин слоев. <...> В данной работе проведены исследования термической деградации AlAs/GaAs наногетероструктуры и партии резонансно-туннельных диодов с использованием методов ИК-спектральной эллипсометрии и ускоренного старения полупроводниковых устройств. <...> В результате определены активационные параметры диффузии (энергия активации и предэкспоненциальный множитель) Al и Si в резонансно-туннельной структуре и приконтактных областях и зависимость контактного сопротивления AuGeNi омических контактов от времени и температуры. <...> Полученные в настоящей работе числовые характеристики основных деградационных процессов могут быть использованы для прогнозирования надежности резонансно-туннельных диодов и нелинейных преобразователей радиосигналов на их основе. <...> Ключевые слова: AlAs/GaAs гетероструктура, приконтактные области, AuGeNi омические контакты, резонансно-туннельный диод, нелинейные преобразователи радиосигналов, деградационные явления, термическое воздействие, коэффициент диффузии, контактное сопротивление, ИК-спектральная эллипсометрия. <...> К таким приборам относятся резонансно-туннельные диоды (РТД) на базе многослойных полупроводниковых AlAs/GaAs гетероструктур с поперечным токопереносом [1 — 3]. <...> Изменяя параметры слоев гетероструктуры (толщину, химический состав), можно управлять формой вольт-амперной характеристики (ВАХ). <...> Такое свойство РТД позволяет создавать на его базе различные нелинейные преобразователи радиосигналов: смесители, выпрямители, умножители и генераторы, функциональные характеристики которых 1 <...> Если исследованиям свойств самих РТД [6–9] и проблемам их радиотехнических применений [10–13] посвящена обширная <...>

Облако ключевых слов *


* - вычисляется автоматически
.