Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 567175)
Консорциум Контекстум Информационная технология сбора цифрового контента
Уважаемые СТУДЕНТЫ и СОТРУДНИКИ ВУЗов, использующие нашу ЭБС. Рекомендуем использовать новую версию сайта.

Плазменные покрытия (методы и оборудование) (200,00 руб.)

0   0
Первый авторКривобоков В. П.
АвторыСочугов Н. С., Соловьев А. А., Томский политехн. ун-т
ИздательствоИзд-во ТПУ
Страниц104
ID260504
АннотацияДается обзор современных методов получения покрытий с использованием низкотемпературной плазмы. Систематизируются основные, использующиеся в настоящее время методы нанесения покрытий, рассматриваются методы ассистированного плазмой химического газофазного и физического газофазного осаждения. Отдельно представлены основные типы вакуумных технологических установок для нанесения покрытий плазменными методами. Пособие разработано в рамках реализации Инновационной образовательной программы ТПУ по направлению «Технология водородной энергетики, энергоснабжение и возобновляемые источники энергии».
Кому рекомендованоПредназначено для студентов, обучающихся на факультетах физико-технического профиля.
ISBN5-98298-191-5--
УДК621.793.74(075.8)
ББК34.55:34.663я73
Кривобоков, В. П. Плазменные покрытия (методы и оборудование) : учеб. пособие / Н. С. Сочугов, А. А. Соловьев; Томский политехн. ун-т; В. П. Кривобоков .— Томск : Изд-во ТПУ, 2008 .— 104 с. — ISBN 5-98298-191-5-- .— URL: https://rucont.ru/efd/260504 (дата обращения: 06.08.2021)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

Систематизируются основные, использующиеся в настоящее время методы нанесения покрытий, рассматриваются методы ассистированного плазмой химического газофазного и физического газофазного осаждения. <...> Ассистированное плазмой химическое газофазное осаждение покрытий . <...> Активируемое лазером или электронным пучком химическое газофазное осаждение покрытий. <...> Нанесение покрытий с использованием процесса испарения . <...> Тлеющий разряд является одним из видов стационарного разряда в газах. <...> С двух сторон в вакуумный стеклянный баллон 3 впаяны два металлических дискообразных электрода – катод 1 и анод 5. <...> Образование тлеющего разряда: + 1 – катод, 2 – темное катодное пространство, 3 – вакуумный баллон, 4 – положительный светящийся столб, 5 – анод Так как при дальнейшем движении к аноду электрон способен многократно ионизировать частицы газа, непосредственно за темным катодным пространством образуется область ионизированного газа. <...> В соответствии с этим вакуумные установки для нанесении тонких пленок, несмотря на многообразие их назначений и конструктивного оформления, состоят из следующих основных элементов: источника генерации потока частиц осаждаемого материала; вакуумной системы, обеспечивающей требуемые условия для проведения технологического процесса; транспортно-позиционирующих устройств, обеспечивающих ввод подложек в зону нанесения пленок и ориентирование обрабатываемых поверхностей относительно потока частиц наносимого материала. <...> Для понимания физических явлений, происходящих при нанесении тонких пленок в вакууме, необходимо знать, что процесс роста пленки на подложке состоит из двух основных этапов: начального и завершающего. <...> Взаимодействие осаждаемых частиц с подложкой: 1 – частицы в вакуумном пространстве, 2 – дуплет частиц, 3 – центр кристаллизации, 4 – адсорбированный дуплет частиц, 5 – рост кристаллита за счет мигрирующих частиц, 6 – подложка, 7 – поверхностная миграция <...>
Плазменные_покрытия_(методы_и_оборудование).pdf
УДК 621.793.7(075.8) ББК 34.55:34.663я73 К82 Кривобоков В.П. К82 Плазменные покрытия (методы и оборудование): учебное пособие / В.П. Кривобоков, Н.С. Сочугов, А.А. Соловьёв. – Томск: Изд-во Томского политехнического университета, 2008. – 104 с. ISBN 5-98298-191-5 Дается обзор современных методов получения покрытий с использованием низкотемпературной плазмы. Систематизируются основные, использующиеся в настоящее время методы нанесения покрытий, рассматриваются методы ассистированного плазмой химического газофазного и физического газофазного осаждения. Отдельно представлены основные типы вакуумных технологических установок для нанесения покрытий плазменными методами. Пособие разработано в рамках реализации Инновационной образовательной программы ТПУ по направлению «Технология водородной энергетики, энергоснабжение и возобновляемые источники энергии» и предназначено для студентов, обучающихся на факультетах физико-технического профиля. УДК 621.793.7(075.8) ББК 34.55:34.663я73 Рекомендовано к печати Редакционно-издательским советом Томского политехнического университета Рецензент Доктор технических наук, профессор ТУСУРа Е.М. Окс ISBN 5-98298-192-3 © Кривобоков В.П., Сочугов Н.С., Соловьёв А.А., 2008 © Томский политехнический университет, 2008 © Оформление. Издательство Томского политехнического университета, 2008
Стр.2
СОДЕРЖАНИЕ Введение .....................................................................................................4 1. Классификация методов нанесения покрытий .....................................10 2. Ассистированное плазмой химическое газофазное осаждение покрытий ...............................................................................13 2.1. Методы нанесения покрытий ассистированным плазмой химическим газофазным осаждением............................................18 2.2. Конструкции низкоэнергетичных ионных источников................21 2.3. Активируемое лазером или электронным пучком химическое газофазное осаждение покрытий....................................................33 2.4. Фотохимическое газофазное осаждение покрытий......................36 3. Физическое газофазное осаждение покрытий......................................39 3.1. Нанесение покрытий с использованием процесса испарения .....39 3.1.1. Общая характеристика процесса .............................................39 3.1.2. Испарители с резистивным, индукционным нагревом и нагревом излучением.............................................................42 3.1.3. Испарители с электронно-лучевым нагревом........................43 3.1.4. Электродуговые испарители....................................................46 3.1.5. Лазерно-лучевые испарители...................................................49 3.2. Нанесение покрытий с использованием процесса распыления...50 3.2.1. Общая характеристика процесса .............................................50 3.2.2. Распыление ионным пучком....................................................52 3.2.3. Планарное диодное и триодное распыление..........................55 3.2.4. Магнетронное распыление.......................................................56 3.3. Метод ионного осаждения...............................................................61 3.4. Ионно-ассистированное осаждение покрытий..............................63 3.5. Ионизированное кластерно-лучевое нанесение покрытий..........65 3.6. Пути повышения эффективности магнетронных распылительных систем...................................................................78 4. Вакуумные технологические установки для нанесения покрытий....92 Список литературы......................................................................................98 Рекомендуемая литература .......................................................................103 3
Стр.3