Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 610654)
Контекстум
Прикладная физика  / №1 2014

Конверсия SiF4 во фторсиланы и моносилан в плазме объемного самостоятельного разряда (10,00 руб.)

0   0
Первый авторАксинин
АвторыКазанцев С.Ю., Кононов И.Г., Кудрявцев Е.М., Орлов А.А., Подлесных С.В., Фирсов К.Н., Хорозова О.Д.
Страниц4
ID431923
АннотацияПоказана возможность эффективной конверсии SiF4в SiHF3, SiH2F2 и SiH4 в объемном самостоятельном разряде, зажигаемом в смеси SiF4:H2. Величины энергетической цены синтеза SiHF3 по энергии, запасенной в конденсаторе системы формирования разряда, и по энергии, введенной в газоразрядную плазму, составили соответственно Qза п˜ ≈ 57 кВт·ч/кг (182 эВ/молекула) и Qпл ˜ ≈ 9 кВт·ч/кг (91 эВ/молекула). Установлено, что в диапазоне давлений смеси Р =60÷350 Торр энергетическая цена не зависит от давления.
УДК533.9.15: 537.523 661.68
Конверсия SiF4 во фторсиланы и моносилан в плазме объемного самостоятельного разряда / В.И. Аксинин [и др.] // Прикладная физика .— 2014 .— №1 .— С. 5-8 .— URL: https://rucont.ru/efd/431923 (дата обращения: 23.04.2025)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

Прикладная физика, 2014, № 1 УДК 533.9.15: 537.523 661.68 Конверсия SiF4 во фторсиланы и моносилан в плазме объемного самостоятельного разряда В.И. Аксинин, С.Ю. Казанцев, И.Г. Кононов, Е.М. Кудрявцев, А.А. Орлов, С.В. Подлесных, К.Н. Фирсов, О.Д. Хорозова ной в конденсаторе системы формирования разряда, и по энергии, введенной в газоразрядную плазму, составили соответственно Qза п Показана возможность эффективной конверсии SiF4 разряде, зажигаемом в смеси SiF4 :H2 Установлено, что в диапазоне давлений смеси Р =60 350 Торр энергетическая цена не зависит от давления. <...> Ka Ключевые слова: тетрафторид кремния, фторсиланы, объемный самостоятельный разряд, инфракрасная Фурье-спектроскопия. <...> Введение В последние десятилетия производству высокочистого кремния и связанным с ним технологическим разработкам уделяется большое внимание [1, 2]. <...> Известно, что на конечном этапе производства по ряду причин использование моносилана SiH4 сравнению с другими газообразными соединениями кремния (SiF4 В России и в других странах, имеющих развитые , SiHCl3 , SiI4 фторидные технологии, в качестве отходов или побочного продукта на предприятиях нарабатываются большие количества SiF4 тивных и экологически безопасных технологий, позволяющих конвертировать SiF4 плазме неконтрагированного СВЧ-разряда (зажигаемого в смеси SiF4 возвратом фтора в производственный цикл [6]. <...> Представляет несомненный интерес исследование возможности применения для этих же целей других форм неконтрагированного разряда, в частности, объемного самостоятельного разряда (ОСР) [7]. <...> Поэтому актуален поиск эффекв моносилан [5] с попутным в моносилан в ), основанный на реакции каталитического является предпочтительным по и т.п. <...> . Физика и техника формирования ОСР в разнообразных газовых средах, благодаря многолетним исследованиям и разработкам электроразрядных лазеров, хорошо развиты [7–9]. <...> В плазме ОСР реализуется высокая неравновесность: при температуре газа ~300 К температура электронов может <...>