Национальный цифровой ресурс Руконт - межотраслевая электронная библиотека (ЭБС) на базе технологии Контекстум (всего произведений: 634620)
Контекстум
.

Модификация нанослоев в высокочастотной плазме пониженного давления (290,00 руб.)

0   0
АвторыАбдуллин И. Ш., Желтухин В. С., Сагбиев И. Р., Шаехов М. Ф., Казан. гос. технол. ун-т
ИздательствоКГТУ
Страниц370
ID229663
АннотацияРабота посвящена модификации поверхностного нанослоя металлов, их сплавов, полупроводников, диэлектриков, тонкопленочных покрытий с помощью высокочастотных разрядов индукционного и емкостного типов при пониженном давлении. Описывается физическая и математическая модели модификации поверхности материалов в высокочастотной плазме пониженного давления, а также результаты теоретического исследования закономерностей формирования основных параметров процесса модификации.
Кому рекомендованоПредназначена для широкого круга специалистов и научных работников, занимающихся вопросами физики низкотемпературной плазмы, а также преподавателей, аспирантов и студентов технических вузов.
ISBN978-5-7882-0553-3
УДК533.9:620.5
ББК22.333
Модификация нанослоев в высокочастотной плазме пониженного давления : монография / И. Ш. Абдуллин, В. С. Желтухин, И. Р. Сагбиев, М. Ф. Шаехов; Казан. гос. технол. ун-т .— Казань : КГТУ, 2007 .— 370 с. : ил. — 370 с. — ISBN 978-5-7882-0553-3 .— URL: https://rucont.ru/efd/229663 (дата обращения: 19.04.2024)

Предпросмотр (выдержки из произведения)

И.Р. САГБИЕВ, М.Ф. ШАЕХОВ МОДИФИКАЦИЯ НАНОСЛОЕВ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ Монография Казань, 2007 УДК 533.9:620.5 ББК 22.333 А13 Модификация нанослоев в высоко-частотной плазме пониженного давления: Монография /И.Ш. Абдуллин, В.С. Желтухин, И.Р. Сагбиев, М.Ф. Шаехов; Казан. гос. технол. ун-т. <...> Работа посвящена модификации поверхностного нанослоя металлов, их сплавов, полупроводников, диэлектриков, тонкопленочных покрытий с помощью высокочастотных разрядов индукционного и емкостного типов при пониженном давлении. <...> Предназначена для широкого круга специа-листов и научных работников, занимающихся вопро-сами физики низкотемпературной плазмы, а также преподавателей, аспирантов и студентов технических вузов. <...> 2007 СПИСОК ОСНОВНЫХ ОБОЗНАЧЕНИЙ И СОКРАЩЕНИЙ Условные обозначения B b = B/ B c Da D Di,e e E EB, EП – вектор магнитной индукции – единичный вектор, параллельный вектору B – – – – – – – E= E – Eϕ – ER – Ei – H – H z , Hϕ – i – Iинд – j, j – ks – me – скорость света коэффициент амбиполярной диффузии вектор электрического смещения коэффициенты диффузии ионов и электронов заряд электрона вектор напряженности электрического поля вихревая и потенциальная составляющие вектора напряженности электрического поля модуль вектора напряженности электрического поля азимутальная составляющая вектора напряженности электрического поля значение напряженности электрического поля на стенке разрядной камеры энергия ионизации вектор напряженности магнитного поля аксиальная и азимутальная составляющие вектора напряженности магнитного поля мнимая единица ток индуктора вектор плотности тока и абсолютное значение плотности тока коэффициент распыления масса электрона 3 ne, ni p Pпотр Pp Pc Qуд r Ra t – – – – – – – – – t tобр tохл Ta, Ti Te Uа – – – – – – UЭ – v – vi,e – va – z – γ e,i – Гe,i – δ – концентрации электронов и ионов статическое давление газа мощность, потребляемая от сети всей установкой мощность, вкладываемая в разряд <...>
Модификация_нанослоев_в_высокочастотной_плазме_пониженного_давления._Монография.pdf
Федеральное агентство по образованию Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский государственный технологический университет" И.Ш. АБДУЛЛИН, В.С. ЖЕЛТУХИН, И.Р. САГБИЕВ, М.Ф. ШАЕХОВ МОДИФИКАЦИЯ НАНОСЛОЕВ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ Монография Казань, 2007
Стр.1
УДК 533.9:620.5 ББК 22.333 А13 Модификация нанослоев в высоко-частотной плазме пониженного давления: Монография /И.Ш. Абдуллин, В.С. Желтухин, И.Р. Сагбиев, М.Ф. Шаехов; Казан. гос. технол. ун-т. Казань, 2007. 3 с. нанослоя диэлектриков, тонкопленочных покрытий с помощью высокочастотных разрядов индукционного и емкостного типов при пониженном давлении. Описывается физическая и математическая модели модификации Работа посвящена модификации поверхностного металлов, их сплавов, полупроводников, материалов в высокочастотной плазме пониженного давления, а также результаты теоретического исследования закономерностей формирования основных параметров процесса модификации. Предназначена для широкого круга специа-листов и поверхности научных работников, занимающихся вопро-сами физики низкотемпературной плазмы, а также преподавателей, аспирантов и студентов технических вузов. Печатается по решению редакционно-издательского Рецензенты: доктор техн. наук В.В. Кудинов доктор физ.-мат. наук Ф.М. Гайсин ISBN ----  © Казанский государственный технологический университет © Абдуллин И.Ш., Желтухин В.С., Сагбиев И.Р., Шаехов М.Ф. 2007 совета Казанского государственного технологического университета.
Стр.2
ОГЛАВЛЕНИЕ Список основных обозначений и сокращений…………………... Введение …………………………………………………............... ГЛАВА 1. МОДИФИКАЦИЯ НАНОСЛОЕВ КАК ОДИН ИЗ ПУТЕЙ ПОВЫШЕНИЯ КАЧЕСТВА ИЗДЕЛИЙ………... 1.1. Поверхность твердого тела и ее свойства………………......... 3 7 12 12 1.2. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии ……......... 16 1.3. Традиционные методы модификации……………….………. 26 1.4. Электрофизические методы обработки материалов………… 32 1.5. ВЧ-плазма пониженного давления как метод модификации материалов……………………………….………………………… 48 1.6. Основные физические процессы взаимодействия плазмы с поверхностями твердых тел………………………………………. Литература к 1 главе………………………………………………. ГЛАВА 2. ХАРАКТЕРИСТИКИ ВЧ-РАЗРЯДОВ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ В ПРОЦЕССАХ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ…………………………………. 2.1. ВЧ-плазма и ее свойства……………………………………… 81 2.2. Методика и аппаратура для экспериментальных исследований потока плазмы ВЧ-разряда пониженного давления…………………………………………………………….. 2.2.1.Особенности экспериментальных исследований пониженного давления ……………………………………………. 53 63 81 8 характеристик ВЧ-разрядов пониженного давления с продувом газа…………………………………………………………………… 9 2.2.2. Аппаратура и методы диагностики ВЧ-разряда  2.3. Характеристики ВЧ-разряда пониженного давления в процессах обработки материалов…………………………………. 129 2.3.1. Энергетические характеристики ВЧ-разряда пониженного давления…………………………………………….. 2.3.2. Газодинамические характеристики плазмы ВЧ-разряда с продувом газа…………………………………………………….. 2.3.3. Тепловое воздействие высокочастотного разряда пониженного давления ……………………………………………. 2.3.4. Напряженность магнитного поля……………………….. 142 368 129 135 139
Стр.368
2.4. Проникновение плазмообразующего газа в поверхность обрабатываемого материала ……………………………………… 2.3.5. Плотность тока…………………………………………… 151 2.3.6. Концентрация электронов……………………………….. 156 2.3.7. Характеристики слоя пространственного заряда……… 167 176 2.5. Выводы………………………………………………………… 180 Литература ко 2 главе……………………………………..………. 182 ГЛАВА 3. ТЕОРЕТИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ…………………………………………………… 184 3.1. Основные этапы численного моделирования ВЧ-разрядов.. 185 3.2. Физическая модель обработки твердых тел в высокочастотной плазме пониженного давления……………….. 199 3.3. Математическая модель высокочастотной плазменной обработки твердых тел при пониженном давлении……………… 204 3.3.1. Основные предположения………………………………. 204 3.3.2. Математическая модель квазинейтральной ВЧ-плазмы пониженного давления…………………………………………….. краевых задач………………………………………………………. 218 3.4. Математическая модель слоя положительного заряда возле обрабатываемого тела ……………………………………………... 226 3.4.1. Структура СПЗ у поверхности обрабатываемого тела… 226 3.4.2. Система задач "предслоя"………………………………... 229 3.4.3. Система задач двойного слоя и СПЗ……………………. 233 3.5. Обсуждение модели…………………………………………… 235 3.6. Результаты теоретических исследований……………………. 237 3.6.1. Постановка задачи численного экспериментирования .. 237 3.6.2. Концентрация электронов………………………………. 240 3.6.3. Напряженность магнитного поля……………………….. 241 3.6.4. Напряженность электрического поля…………………… 243 3.6.5. Температура плазменной струи…………………………. 244 3.6.6. Характеристики процесса обработки твердых тел в высокочастотной плазме пониженного давления………………... 245 Литература к 3 главе……………………………………..………… 249 369 210 3.3.2.1. Система краевых задач………………………………… 210 3.3.2.2. Необходимые условия разрешимости системы
Стр.369
ГЛАВА 4. МОДИФИКАЦИЯ ПОВЕРХНОСТНЫХ НАНОИ МИКРОСЛОЕВ МАТЕРИАЛОВ …………… 256 4.1. Материалы и методики исследования взаимодействия плазмы с конструкционными материалами……………………… 256 4.1.1. Материалы…………………………………………. 4.1.2. Методики исследования взаимодействия ВЧ−плазмы с различными материалами ………………………………………. 256 259 4.2. Взаимодействие плазмы с материалами……………………… 269 4.2.1. Металлы и их сплавы……………………………………. 269 4.2.2. Диэлектрики……………………………………………… 325 4.2.3. Тонкопленочные покрытия……………………………… 333 4.3. Применение ВЧ–плазмы для обработки изделий…………… 347 4.3.1. Изделия машиностроения…………………………. 347 Литература к 4 главе……………………………………..………… 362 Заключение………………………………………………………… 364 370
Стр.370